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反渗透膜的化学清洗
来源:水处理新视野 | 作者:hemeijiakeji | 发布时间: 2022-09-06 | 242 次浏览 | 分享到:

    大家都知道,膜元件必须在产生大量污垢前进行清洗,如果清洗工作延误太晚,那么将非常困难或者不可能从膜表面上彻底清除污垢并重新恢复膜性能至初始的状态。那么应该进行膜清洗的标志是什么呢?那就是当进水和浓水之间的标准化压差上升了15%,或标准化的产水量降低了10%,或标准化的盐透率增加了5%时,我们就该进行膜清洗啦!

 

  化学清洗药剂的选择

    在清洗之前确定膜表面污垢的类型是非常重要的。进行污垢类型确定的最好方法是对SDI测试膜片上所收集的残留物进行化学分析,以确定污染物的主要类型,以便进行针对性的化学清洗。在不能采用化学分析的情况下,可以根据SDI的测定情况,测试膜片上残留物的颜色、密度,然后对污垢进行分类。比如,呈褐色的残留物引导我们判断是否为铁污垢;白色残留物则可能是硅、砂质粘土、钙垢等;晶状体外形是无机胶体、钙垢的一个特征;生物污垢或者有机污垢,除了从气味上分析判断外,通常还可以看出这类污染物呈现粘稠状。


确定了膜表面的污染物,那么就必须选择正确的清洗程序。如果认为污垢为金属氢氧化物,比如:含铁的氢氧化物、或者钙垢,那么可以采用柠檬酸清洗;如果确定主要污垢为有机物或者微生物,那么建议使用碱性清洗方法。

    下面通过一张表格的形式带大家了解一下如何选择化学清洗剂:

污染物
首选化学清洗剂
清洗条件
备选化学清洗液
无机盐垢(如钙垢)
0.2%HCl
PH:1-2
温度<38℃
(1)2.0%柠檬酸(最好浸泡过夜)
(2)1.0%
Na2S2O4
(3)0.5%磷酸
金属氧化物(如铁、铝等)
1.0%Na2S2O4溶液
温度<35℃
(1)0.5%磷酸
(2)2.0%柠檬酸
不溶于酸的垢CaF2BaSO4SrSO4CaSO4

0.1%NaOH溶液+1.0%
Na4EDTA溶液
PH:11-12
温度<30℃
SHMP浓度1%
无机胶体(如淤泥)
0.1%NaOH溶液+0.025%Na-SDS
PH:11-12
温度<30℃

硅垢
0.1%NaOH溶液+0.025%Na-SDS
PH:11-12
温度<30℃
0.1%NaOH溶液+1.0%
Na4EDTA溶液
微生物
0.1%NaOH溶液+0.025%Na-SDS
PH:11-12
温度<30℃
0.1%NaOH溶液+1.0%
Na4EDTA溶液
有机物
0.1%NaOH溶液+0.025%Na-SDS
PH:11-12
温度<30℃
0.2%HCl通常作为洗后的第二步清洗
以上表格中百分数均为其有效成分的质量百分比;SHMP是六偏磷酸钠盐;Na-SDS是十二烷基磺酸钠;Na4EDTA是乙二胺四乙酸四钠。

    清洗所用化学物质与污染物相互作用,通过溶解或成分离,从而从膜表面清除掉污染物。该方法通常在冲洗之后采用。定期进行化学清洗以及在系统出现重大故障之前进行预防性的维护是非常好的做法。在化学清洗之后,使用预处理过的原水或产水 (最好采用)将污染物彻底地冲洗出RO系统。

图片

化学清洗需要注意的事项

化学清洗

注意事项

清洗药剂配置用水

软化水或者产品水,无重金属、余氯或者其他氧化剂

清洗药剂量

每支8英寸元件:40-80升(取决于污垢程度)

每支4英寸元件:10-20升(取决于污垢程度)

清洗操作压力

较低的压力(0.1-0.3MPa),通常不超过0.4Mpa

清洗流速

每支8英寸的压力容器:6-9m/hr

每支4英寸压力容器:1.8-2.3m3/hr

清洗液温度

尽可能高,但是最高温度为45℃,通常选择为30-35℃,如果清洗溶液的温度超过45℃,应安装冷却设备

清洗类型

每支压力容器分别交替进行再循环和浸泡

循环周期

建议每0.5-1小时(重复2-3次)

浸泡时间

2-24小时(取决于污垢的程度)

清洗方法

最好进行分段清洗

清洗时间 

最少1-2小时,取决于污染程度与应用的清洗方法


(1) 对于细菌污染物采用消毒和清洗剂清洗是最有效的。首先进行消毒, 然后进行清洗剂去污处理。

(2) 对于多种污染物同时并存的情况,通常需要多种清洗方法结合才能达到良好的效果,清洗顺序一般是先进行除铁清洗,然后进行酸性清洗,再进行碱性清洗。 

(3) 如果清洗后的脱盐率不理想,可以再使用酸性药剂对膜表面进行冲刷,最后用预处理后的水(最好是RO产品水)将清洗液彻底冲洗干净。


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